如今芯片大战已经拉开序幕，我国在该领域也是一直在不断地前行，接连获得好消息。其中华为一直是我们的骄傲，如今已经生产出7nm的芯片。7nm如今是世界范围内技术最高的工艺，能够实现这个工艺不单单是需要像华为等的研发技术，还需要设备。

我们一直以来比较关心的都是芯片技术，但是对于设备其实也是非常重要的，如今华为、苹果、高通都是通过代加工实现的芯片生产过程，而这些代加工企业就是包括了台积电、三星以及英特尔，他们的加工水平，还需要依靠设备的生产商，也就是芯片生产的决定设备。

对于10nm一下芯片生产的设备还是很少的，如今大家比较通用的就是ASML生产的光刻机，这家公司的光刻机也决定了世界范围的芯片发展速度，就连美国也是需要依靠他们来实现自己芯片的不断壮大。

但是近日中国芯也再获喜讯，我们的光刻机技术已经达到了10nm以下的工艺技术，这也是世界第一台紫外超分辨光刻机，打破了世界级别的技术壁垒，中国研发出世界领先的光刻机，也就意味着又一项国外领先的技术被打破，中国芯又向前走了一步。那么这项技术的研发对于我国的芯片征战世界有哪些好处呢?

我们都知道如今华为的最大对手可以说是苹果，应为他们都是具有独自开发的芯片，要想超过苹果，芯片的生产技术就变得非常的重要，如今我们已经具有了芯片生产设备，如果与华为联手，那么中国芯就是全部自主研发、生产，这必然是对于苹果最好的打击，也是库克的软肋，因为目前美国也还不具有这样独立的技术。